◎ 题干
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
◎ 答案
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◎ 解析
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◎ 知识点
    根据魔方格专家分析,试题“三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O="2"NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂B.还…”主要考查了你对  【氧化还原反应的本质和特征】【氧化还原反应的配平】【氧化还原反应的表示方法】【氧化还原反应与基本反应类型的关系】  等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”,你可以点击相应的链接进行查看和学习。