四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4＋2H24HCl＋Si下列说法不合理的是A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．增大压强有利于加快上述-高中化学-魔方格

◎ 题干

四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：
SiCl₄＋2H₂4HCl＋Si
下列说法不合理的是

A．反应制得的硅可用于制造半导体材料

B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率

C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得

D．混入少量空气对上述反应无影响

◎ 答案

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◎ 解析

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◎ 知识点

根据魔方格专家分析，试题“四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4＋2H24HCl＋Si下列说法不合理的是A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．增大压强有利于加快上述…”主要考查了你对【影响化学平衡的因素】，【达到化学平衡的标志】，【化学平衡常数】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4＋2H24HCl＋Si下列说法不合理的是A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．增大压强有利于加快上述”考查相似的试题有：

● 在一定温度下，反应：2A(s)+2B(g)C(g)+D(g)在恒容容器中进行，不能说明该反应已经达到平衡的是A．单位时间内生成2amolB，同时生成amolDB．C的质量不再改变C．容器内的压强不随时 ● 在一定温度下，可逆反应A(气)＋3B(气)2C(气)达到平衡的标志是()A．A、B、C的分子数比为132B．A、B、C的浓度相等C．C生成的速率与C分解的速率相等D．单位时间生成nmolA，同时生成3 ● 在一定温度下，容器内某一反应中M、N的物质的量随反应时间变化的曲线如图所示，则下列说法正确的是A．反应的化学方程式为：2MNB．t2时，正逆反应速率相等，达到平衡C．t3时，正反 ● 在一定温度下，可逆反应A(气)＋3B(气)2C(气)达到平衡的标志是A．C生成的速率与C分解的速率相等B．A、B、C的浓度相等C．A、B、C的分子数比为1:3:2D．单位时间生成nmolA，同时生成3 ● 对于可逆反应2SO2+O22SO3，在混合气体中充入一定量的18O2，足够长的时间后，18O原子A．只存在于O2中B．只存在于O2和SO3中C．只存在于O2和SO2中D．存在于O2、SO2和SO3中