近年来研制的NF3气体可运用于氟化氢--氟化氚高能化学激光器中的氟源,也可作为火箭推进剂,NF3可用NH3与氟气制取,化学方程式为:4NH3+3F2=NF3+3NH4F。 下列说法不正确的是 |
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A.NF3的形成过程用电子式可表示为 B.NF3的氧化性大于F2 C.NF3分子空间构型为三角锥形 D.NH4F中既有离子键又有极性共价键 |
根据魔方格专家分析,试题“近年来研制的NF3气体可运用于氟化氢--氟化氚高能化学激光器中的氟源,也可作为火箭推进剂,NF3可用NH3与氟气制取,化学方程式为:4NH3+3F2=NF3+3NH4F。下列说法不正确的是[]A…”主要考查了你对 【氧化剂、还原剂】,【氨气】,【极性键、非极性键】,【离子键】,【电子式的书写】 等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”,你可以点击相应的链接进行查看和学习。
与“近年来研制的NF3气体可运用于氟化氢--氟化氚高能化学激光器中的氟源,也可作为火箭推进剂,NF3可用NH3与氟气制取,化学方程式为:4NH3+3F2=NF3+3NH4F。下列说法不正确的是[]A”考查相似的试题有: