光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（）A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2B．1mol该物质可消耗4mo-高中化学-魔方格

◎ 题干

光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（　　）

A．合成此高聚物的单体的化学式为C₁₁H₁₀O₂

B．1 mol该物质可消耗4molH₂

C．该物质可稳定存在于碱性溶液中

D．该物质可经过加聚反应制得

◎ 答案

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◎ 解析

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◎ 知识点

根据魔方格专家分析，试题“光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（）A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2B．1mol该物质可消耗4mo…”主要考查了你对【有机物分子的空间构型】等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。

◎ 相似题

与“光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（）A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2B．1mol该物质可消耗4mo”考查相似的试题有：

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